共溅射和离子注入制备的SiO2(EU)薄膜中EU3+到EU2+的转变

• 作者: 刘丰珍 刘涛 朱美芳 李秉程
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: SiO2(Eu)薄膜,XANES
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:结构、热学和力学性质
• 页码范围: 532-535
• 页数: 4页
• 分类号: O4
• 字数: 2946字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2001.03.032

摘要

采用共溅射方法和Eu离子注入热生长的SiO2方法得到SiO2(Eu)薄膜，Eu离子的浓度为4％和0.5％。对样品X射线吸收近边结构(XANES)的研究和分析表明，在高温氮气中发生了Eu3+向Eu2+的转变。SiO2(Eu)薄膜高温氮气退火下蓝光的发射证明了这一结论。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘涛	中国科学院高能物理研究所	145	871	16.0	22.0
2	刘丰珍	中国科学技术大学研究生院物理系	17	105	4.0	10.0
3	朱美芳	中国科学技术大学研究生院物理系	11	98	4.0	9.0
4	李秉程	中国科学院半导体研究所	1	0	0.0	0.0