Cu-Al合金内氧化及Cu氧化行为的热力学分析

• 作者: 吴人洁 孟凡斌 崔春翔 申玉田
• 来源期刊: 粉末冶金技术
• 学科: 工学
• 关键词: 内氧化 氧化 介质 热力学 氧分压
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 28-32
• 页数: 5页
• 分类号: TF12
• 字数: 2685字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-3784.2001.01.007

摘要

对Cu-Al合金的内氧化及冷却过程中Cu的氧化行为进行了热力学分析和实验研究，据此确立了Cu2O粉末和氮基气氛共同作为内氧化介质的新工艺。结果表明，内氧化区是择优氧化区中上限氧分压下方的一个很小区域，其中上限氧分压由下式计算，lgPo2上=-(17611)/(T)+12.91；内氧化介质、氧分压和温度是实际内氧化控制的三要素；内氧化过程中晶内生成了均匀弥散分布的纳米γ-A12O3粒子，其平均尺寸和颗粒间距分别为7nm和30nm。降温过程中Cu的氧化不容忽视，通H2急冷可明显提高材料性能。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴人洁		75	1776	26.0	39.0
2	崔春翔	河北工业大学材料学院	136	1160	18.0	27.0
3	申玉田	河北工业大学材料学院	26	380	11.0	19.0
4	孟凡斌	河北工业大学材料学院	32	328	10.0	17.0