超灵敏小型回旋加速器质谱计的Cs溅射负离子源的研制和性能

• 作者: 斯厚智
• 来源期刊: 核技术
• 学科: 工学
• 关键词: 超灵敏质谱 负离子源 溅射
• 年，卷（期）: 2001,（z1）
• 页码范围: 244-249
• 页数: 6页
• 分类号: TL542
• 字数: 2524字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-3219.2001.z1.031

摘要

一台用于超灵敏质谱(AMS)的带有多靶机构的强流溅射负离子源已经研制完成,为了满足AMS的特殊要求,源的设计着重解决提高流强、降低记忆效应及改善发射度等方面的问题,并且十分注意性能的可靠性与稳定性.样机在试验台架上进行了一年多的调试并进一步作了改进,迄今已引出了10μA BeO、5μAl-、4.5μA Fe-、350μA C-以及其他十余个离子品种,100μA以下测得的归一化发射度为(2-4)πmm@mrad@MeV1/2,对记忆效应与电离效率也进行了初步测定.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	斯厚智	中国科学院上海原子核研究所	2	10	2.0	2.0