厚膜光刻工艺在PDP中的应用

• 作者: 陈秀敏
• 来源期刊: 光电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: PDP 厚膜 光刻 感光性浆料
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 页码范围: 39-44
• 页数: 6页
• 分类号: TN873+.94
• 字数: 3534字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-488X.2001.01.006

摘要

简要介绍了表面放电型ACPDP制作工艺中电极、障壁和荧光粉的厚膜光刻技术,并对这些工艺中所存在的一些问题进行分析和讨论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈秀敏	南京电子器件研究所国家平板显示工程技术研究中心	1	13	1.0	1.0