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摘要:
研究了1150℃时效时Ti-48Al合金全片层组织的连续粗化机制。片层组织的连续粗化不仅能通过片层界面缺陷(如台阶、端部、弯曲的界面等)迁移来实现,而且可以通过γ/γ片层界面迁移或分解的方式来实现;在真孪晶、伪孪晶和120°旋转有序型γ/γ界面当中,120°旋转有序界面的稳定性最低,最容易迁移或分解;γ片层内的120°旋转有序畴界与片层界面的交汇处易形成热沟(thermal groove),它往往成为片层界面发生分解的起始部位。
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 Ti-48Al合金片层组织的连续粗化机制
来源期刊 材料热处理学报 学科 工学
关键词 TiAl合金 片层组织 连续粗化
年,卷(期) 2001,(1) 所属期刊栏目 金属间化合物
研究方向 页码范围 2-6
页数 5页 分类号 TG146.2+3
字数 2459字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1009-6264.2001.01.002
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 曹春晓 130 2457 25.0 42.0
2 李臻熙 52 998 16.0 30.0
3 孙福生 8 48 5.0 6.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
TiAl合金
片层组织
连续粗化
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
材料热处理学报
月刊
1009-6264
11-4545/TG
大16
北京市海淀区学清路18号北京电机研究所内
82-591
1980
chi
出版文献量(篇)
6505
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16
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41469
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