多弧离子镀合金涂层的成分控制及阴极靶源的成分设计

• 作者: 孙墨汉 张钧 王希囡 王志海
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 多弧离子镀 合金涂层 成分
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 所属期刊栏目: 专家聚焦
• 页码范围: 12-14
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.8
• 字数: 2216字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2001.01.002

摘要

采用多弧离子镀制备的合金涂层成分与合金阴极靶之间通常存在一定程度的偏差。这种离析效应导致了合金涂层成分控制及合金靶材成分设计的困难。现在的研究工作提出了一个简易的公式an=［(an0*fn)/i(ai0*fi)］*100%用于解决这些问题。此公式可以根据合金元素的离化率计算涂层的合金成分。计算结果与实验结果取得了较好的一致。改变该公式的表达方式an0=［(an/fn)/i(ai/fi)］*100%，则易于完成阴极靶源的成分设计，并且实现合金涂层的理想成分。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王志海		3	18	2.0	3.0
2	孙墨汉		6	22	2.0	4.0
3	王希囡		3	25	3.0	3.0
4	张钧		49	208	8.0	12.0