Ranlan测量Ge/Si多层膜中Ge晶粒尺寸的理论研究

• 作者: 吴兴惠 吴晓昆 杨宇
• 来源期刊: 红外技术
• 学科: 物理学
• 关键词: Ge拉曼光谱 Gex/Si1-x多层膜 声子限域模型 微晶表面效应
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 15-18
• 页数: 4页
• 分类号: O76
• 字数: 2779字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2001.01.005

摘要

研究了用磁控溅射方法制备的Gex／Si1-x多层膜的Ge拉曼光谱，在分析了多层膜中Ge微晶的分布和采用微晶壳层结构假设的条件下，考虑了微晶表面效应的影响，用声子限域模型计算了Ce纳米晶粒的拉曼谱线，拉曼拟合谱线为三条理论谱线的叠加。计算结果表明：在考虑了微晶的表面效应后，拟合结果与实验结果符合得很好。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨宇	云南大学材料科学与工程系	101	377	9.0	12.0
2	吴兴惠	云南大学材料科学与工程系	86	1144	19.0	29.0
3	吴晓昆	云南大学材料科学与工程系	1	8	1.0	1.0