等离子增强磁控溅射沉积技术(PMD)

• 作者: 倪翰 凌国伟 萧域星
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 等离子体 气相沉积
• 年，卷（期）: 2001,（4）
• 所属期刊栏目: 专家聚集
• 页码范围: 14-16
• 页数: 3页
• 分类号: TB43
• 字数: 2446字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2001.04.004

摘要

本文介绍了等离子增强磁控溅射沉积技术.有关技术背景、技术发展、技术应用都作了论述.对技术

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	凌国伟		10	15	2.0	2.0
2	倪翰		1	3	1.0	1.0
3	萧域星		1	3	1.0	1.0