光学邻近校正改善亚微米光刻图形质量

• 作者: 石瑞英 郭永康
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 亚微米光刻 光学邻近效应 光学邻近校正 波前工程学
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 页码范围: 20-26
• 页数: 7页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 5571字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2001.03.006

摘要

论述了近年来光学邻近校正技术的进展，讨论了各种行之有效的改善光刻图形质量的校正方法，并分析了邻近效应校正在未来光刻技术中的地位和作用。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	石瑞英	四川大学物理系	28	141	7.0	11.0
2	郭永康	中科院微电子中心	1	11	1.0	1.0