三甲基硅取代酞菁的光降解反应研究

• 作者: 孟凡顺 田禾 郭霖 陈孔常
• 来源期刊: 感光科学与光化学
• 学科: 化学
• 关键词: 三甲基硅取代酞菁 光降解 机理
• 年，卷（期）: 2001,（2）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 127-130
• 页数: 4页
• 分类号: O644
• 字数: 1919字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-0475.2001.02.008

摘要

三甲基硅取代锌酞菁在有机溶剂中的光降解为准一级动力学衰减，本文对其光降解后产生的碎片用气相色谱-质谱联用技术进行了分析，提出了三甲基硅取代锌酞菁的光降解机理.三甲基硅取代酞菁在有机溶剂中的溶解度是影响其光降解的主要因素，溶解度越大，光降解速度越快.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	田禾	华东理工大学精细化工研究所	95	944	15.0	27.0
2	孟凡顺	华东理工大学精细化工研究所	14	110	6.0	10.0
3	陈孔常	华东理工大学精细化工研究所	31	407	9.0	19.0
4	郭霖	华东理工大学精细化工研究所	4	13	2.0	3.0