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摘要:
利用射频磁控溅射技术在有机玻璃表面上一次完成表面活化、ITO膜制备、SiO2减反射膜制备过程.利用低能等离子体对有机玻璃表面进行改性以提高ITO膜的附着力.研究了氧分压等工艺参数对ITO膜导电性能及光学性能的影响.
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文献信息
篇名 在有机玻璃上射频溅射ITO组合薄膜
来源期刊 光学技术 学科 文学
关键词 ITO膜 射频磁控溅射 表面改性 低温成膜
年,卷(期) 2001,(6) 所属期刊栏目 薄膜光学
研究方向 页码范围 501-502
页数 2页 分类号 J527.3
字数 1760字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1002-1582.2001.06.034
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 孙连春 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 19 380 10.0 19.0
2 高劲松 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 63 701 16.0 23.0
3 王哲 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 32 141 7.0 11.0
4 郑宣明 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 3 39 2.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
ITO膜
射频磁控溅射
表面改性
低温成膜
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学技术
双月刊
1002-1582
11-1879/O4
大16开
北京市海淀区中关村南大街5号
2-830
1975
chi
出版文献量(篇)
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42622
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