基片表面的磁场对磁控溅射法制备Fe-N薄膜特性的影响

• 作者: 朱炎 杨海峰 狄国庆 赵登涛 陈亚杰
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Fe-N薄膜 磁场 磁性能 晶粒
• 年，卷（期）: 2001,（4）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 332-335
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4|O441.6
• 字数: 2486字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2001.04.018

摘要

利用反应磁控溅射方法制备了Fe-N薄膜.发现未退火的薄膜基本处于非晶或微晶状态,退火或在沉积时对基片施加一磁场,可使晶粒变大,并出现对应内部存在应力的γ′-Fe4N的(110)晶面的择优取向.特别是外加的磁场使得Fe-N薄膜具有明显改善的磁性能.作者利用磁场中带电粒子受约运动的观点解释了这一现象.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱炎	苏州大学物理系	9	68	4.0	8.0
2	赵登涛	苏州大学物理系	7	43	4.0	6.0
3	狄国庆	苏州大学物理系	18	135	7.0	11.0
4	陈亚杰	苏州大学物理系	10	68	4.0	8.0
5	杨海峰	苏州大学物理系	1	3	1.0	1.0