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等离子喷涂Cr2O3涂层显微硬度的工艺优化
等离子喷涂Cr2O3涂层显微硬度的工艺优化
作者:
丁传贤
季珩
李剑锋
黄静琪
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
等离子喷涂
均匀设计
氧化铬涂层
显微硬度
工艺优化
摘要:
应用均匀设计实验方法和对测量数据的统计分析结果,系统地考察了喷枪电流、等离子气体流量、喷涂距离和送粉率等工艺参数对Cr2O3涂层显微硬度的影响,并运用逐步回归分析建立显微硬度随所考察工艺参数变化的数学模型;然后以所建立的数学模型为基础,对Cr2O3涂层显微硬度进行了工艺优化. 结果表明:以优化工艺参数喷涂涂层的显微硬度与数学模型预测的最优值相当一致,均匀设计法可用于等离子喷涂涂层显微硬度的工艺优化.
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送粉率
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等离子弧电压
超音速等离子喷涂工艺参数对Cr2O3涂层硬度的影响
超音速等离子喷涂
Cr2O3涂层
正交试验
显微硬度
显微结构
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文献信息
篇名
等离子喷涂Cr2O3涂层显微硬度的工艺优化
来源期刊
硅酸盐学报
学科
工学
关键词
等离子喷涂
均匀设计
氧化铬涂层
显微硬度
工艺优化
年,卷(期)
2001,(1)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
49-53
页数
5页
分类号
TG174
字数
2903字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:0454-5648.2001.01.011
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
丁传贤
中国科学院上海硅酸盐研究所
55
1092
19.0
32.0
2
季珩
中国科学院上海硅酸盐研究所
19
137
7.0
11.0
3
李剑锋
中国科学院上海硅酸盐研究所
38
466
11.0
20.0
4
黄静琪
中国科学院上海硅酸盐研究所
11
146
7.0
11.0
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节点文献
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(130)
1994(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
1995(2)
参考文献(0)
二级参考文献(2)
1996(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
1997(2)
参考文献(1)
二级参考文献(1)
1998(3)
参考文献(2)
二级参考文献(1)
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参考文献(0)
二级参考文献(2)
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二级参考文献(0)
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均匀设计
氧化铬涂层
显微硬度
工艺优化
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研究来源
研究分支
研究去脉
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相关学者/机构
期刊影响力
硅酸盐学报
主办单位:
中国硅酸盐学会
出版周期:
月刊
ISSN:
0454-5648
CN:
11-2310/TQ
开本:
大16开
出版地:
北京市海淀区三里河路11号
邮发代号:
2-695
创刊时间:
1957
语种:
chi
出版文献量(篇)
6375
总下载数(次)
8
总被引数(次)
83235
期刊文献
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