碳氮膜的沉积工艺及其结构研究

• 作者: 付志强 戴达煌 林松盛 袁镇海 邓其森 郑健红 顾子平
• 来源期刊: 材料研究与应用
• 关键词: 电弧沉积 氨 CNx膜
• 年，卷（期）: 2001,（2）
• 页码范围: 134-137
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.444
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-9981.2001.02.014

摘要

以氨气为反应气体,用真空阴极电弧沉积法制备了CNx膜,研究了工艺参数对膜层的沉积速率、化学成分的影响及膜层结合状态.结果表明:沉积速率随着氨气分压的提高而下降,当氨气分压达到6.7 Pa时将没有膜的沉积;CNx膜主要由碳和氮组成,降低真空系统的抽速、将反应气体导至靶面附近、提高氨气分压可以提高膜层中氮含量;氮是以化合态存在于膜层中.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林松盛	广州有色金属研究院材料表面工程技术研究开发中心	45	332	11.0	14.0
2	付志强	广州有色金属研究院材料表面工程技术研究开发中心	6	41	3.0	6.0
3	邓其森	广州有色金属研究院材料表面工程技术研究开发中心	4	20	2.0	4.0
4	袁镇海	广州有色金属研究院材料表面工程技术研究开发中心	10	59	5.0	7.0
5	郑健红	广州有色金属研究院材料表面工程技术研究开发中心	5	23	3.0	4.0
6	顾子平		2	3	1.0	1.0