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摘要:
针对CMOS集成电路制造工艺中出现的阈值电压漂移问题,通过对大量工艺实验数据的统计分析,提出了电路失效模型,又运用理论分析,找出了问题的原因所在。据此改进了设计和工艺,并经实验验证,效果良好。
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文献信息
篇名 P阱硅栅CMOS电路阈值电压漂移现象的分析和采取的解决办法
来源期刊 集成电路通讯 学科 工学
关键词 阈值电压漂移 集成电路 注入能量 P阱硅栅 CMOS电路
年,卷(期) 2001,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 13-18
页数 6页 分类号 TN432
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1 高庆宁 1 0 0.0 0.0
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研究主题发展历程
节点文献
阈值电压漂移
集成电路
注入能量
P阱硅栅
CMOS电路
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
集成电路通讯
季刊
大16开
安徽省蚌埠市06信箱
1983
chi
出版文献量(篇)
868
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16
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1121
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