并四苯晶体的物理气相沉积

• 作者: 刘建军 刘明大 李永军 石家纬 纪平 葛翔 郭树旭 金恩顺
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 并四苯 有机晶体 物理气相沉积
• 年，卷（期）: 2001,（6）
• 所属期刊栏目: 研究论文与技术报告
• 页码范围: 437-439,442
• 页数: 4页
• 分类号: O743.5|TN304.055
• 字数: 2476字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2001.06.016

摘要

设计了水平沉积系统,物理气相生长了并四苯晶体.仅用10～30mg的源,得到了面积达20mm2 的片状晶体.报道了可重复性的晶体生长条件.测试表明,晶体表面光滑,结构非常有序.