CdTe钝化介质膜的溅射沉积及其X射线光电子能谱研究

• 作者: 吴小山 周咏东 徐国森 方家熊 李言谨 汤定元
• 来源期刊: 红外技术
• 学科: 工学
• 关键词: CdTe 离子束溅射沉积 XPS HgCdTe 表面钝化
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 8-10，14
• 页数: 4页
• 分类号: TN213
• 字数: 2942字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2001.01.003

摘要

用Ar+束溅射沉积技术实现了CdTe薄膜的低温沉积生长。用X射线光电子能谱(XPS)分析技术对溅射沉积CdTe薄膜以及CdTe体晶中的Cd元素、Te元素化学环境进行了对比实验研究。实验表明：溅射沉积CdTe薄膜具有很好的组份均匀性，未探测到有元素(Cd、Te)沉积存在。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汤定元	中国科学院上海技术物理研究所	16	70	4.0	7.0
2	李言谨	中国科学院上海技术物理研究所	24	187	8.0	13.0
3	方家熊	中国科学院上海技术物理研究所	39	184	7.0	11.0
4	吴小山	南京大学固体微结构物理实验室	36	180	6.0	12.0
5	徐国森	中国科学院上海技术物理研究所	7	54	4.0	7.0
6	周咏东	南京大学固体微结构物理实验室	1	1	1.0	1.0