多晶硅液态源掺杂工艺质量控制究

• 作者: 李丙旺
• 来源期刊: 集成电路通讯
• 学科: 工学
• 关键词: 多晶硅 掺杂 最小二乘法 方块电阻 半导体集成电路 质量控制 CMOS
• 年，卷（期）: 2001,（2）
• 页码范围: 22-24
• 页数: 3页
• 分类号: TN432

摘要

采用液态源进行多晶硅掺杂，利用最小二乘法得出多晶硅掺杂方块电阻与掺杂时间，以及多晶硅掺杂方块电阻与多晶硅厚度的实验曲线和经验公式。为硅栅CMOS电路中的多晶硅掺杂工艺的设计提供了直接依据，并为其工艺质量控制提供了保障。

作者信息

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1	李丙旺		12	0	0.0	0.0