Fe-N奥氏体中析出纳米级γ＇现象的初步研究

• 作者: 戎咏华 朱祖昌 潘健生 胡明娟 邱春城
• 来源期刊: 材料热处理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米材料 高氮奥氏体 热处理 制备 析出
• 年，卷（期）: 2001,（2）
• 所属期刊栏目: 显微组织
• 页码范围: 1-4
• 页数: 4页
• 分类号: TG156.8+2|TG115.21
• 字数: 3144字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-6264.2001.02.001

摘要

用TEM对640℃渗氮油淬,225℃等温3.5h的工业纯铁进行分析,观察部位的含氮量(w)约为2.2%～2.4%.在"未分解”的奥氏体选区衍射花样中γ＇-Fe4N和γ-Fe已明显分离为两套独立的斑点,在(200)γ＇的暗场像中显示出在高氮奥氏体内析出高密度纳米级沉淀γ＇,其平均尺寸约10nm,析出物之间的间距亦为纳米级.根据实验观察结果,提出用热处理方法制备大体积纳米材料的途径.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戎咏华	上海交通大学热处理与表面工程智能技术研究所	80	533	12.0	20.0
2	潘健生	上海交通大学热处理与表面工程智能技术研究所	57	1023	20.0	30.0
3	邱春城	上海交通大学热处理与表面工程智能技术研究所	11	93	5.0	9.0
4	胡明娟	上海交通大学热处理与表面工程智能技术研究所	32	589	16.0	23.0
5	朱祖昌		91	483	10.0	19.0