钛(Ⅳ)离子改性低铬钝化膜的研究

• 作者: 任玉苓 卢燕平 卢琳 屈祖玉
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: Ti(Ⅳ)化合物 改性 耐蚀性 钝化膜
• 年，卷（期）: 2001,（5）
• 所属期刊栏目: 氧化膜处理
• 页码范围: 39-42
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.44
• 字数: 3689字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2001.05.013

摘要

应用SEM、EDX、XRD和腐蚀测试手段研究了Ti(Ⅳ)化合物改性低铬钝化膜的组成、结构和耐蚀性能.实践和理论表明:所形成的钝化膜,实际上是铬酸钝化反应和Ti(Ⅳ)化合物水解-沉淀反应产物的有机结合,是一种由CrOOH,ZnCrO4,TiO2,Cr2O3和砷TiOSO4等物质组成的复合型钝化膜.这种钝化膜的耐蚀性是低铬钝化膜的3～4倍,其主要原因是因为钝化膜内Ti(Ⅳ)离子的掺杂效应和Ti(Ⅳ)化合物水解-封闭作用,能有效地阻止H2O、O2和Cl-的侵蚀.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卢燕平	北京科技大学腐蚀与防护中心	25	288	11.0	16.0
2	屈祖玉	北京科技大学腐蚀与防护中心	11	112	7.0	10.0
3	任玉苓		9	17	2.0	3.0
4	卢琳	北京科技大学腐蚀与防护中心	39	190	7.0	13.0