射频溅射制备Ni-SiO2薄膜特性研究

• 作者: 姚保纶 屈晓声 李德杰 田宏
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: Ni-SiO2薄膜 金属体积百分比 射频溅射 透光性
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 323-324
• 页数: 2页
• 分类号: TF123
• 字数: 1329字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2001.03.040

摘要

Ni-SiO2金属陶瓷薄膜是制作透明电阻层的材料,用射频磁控溅射反应制备对近紫外透明的Ni-SiO2薄膜,生成的样品均匀、致密,通过控制薄膜中的金属体积百分比可改变薄膜的电阻率及透光性满足实际工艺需求.X射线能谱分析可以估算出Ni在样品中的百分比,各种不同制备条件下的样品透射率有较大的差别.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李德杰	清华大学电子工程系	34	152	8.0	10.0
2	屈晓声	清华大学电子工程系	6	14	2.0	3.0
3	姚保纶	清华大学电子工程系	7	18	3.0	4.0