多孔硅表面的Al2O3钝化处理

• 作者: 刘小兵 史向华
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 物理学
• 关键词: 多孔硅 Al2O3膜 钝化
• 年，卷（期）: 2001,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文与技术报告
• 页码范围: 285-288
• 页数: 4页
• 分类号: O471.1|O433.2|O431.1
• 字数: 4125字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2001.04.017

摘要

用Al2O3钝化的方法对多孔硅进行了后处理,获得了光致发光强度强、发光稳定的样品.通过对样品进行傅里叶变换红外吸收谱的测试和分析,指出了Al2O3结构的产生是实验中多孔硅发光稳定性提高的原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	史向华	长沙电力学院物理与信息工程系	25	84	5.0	8.0
2	刘小兵	长沙电力学院物理与信息工程系	28	102	5.0	8.0