水基清洗技术在彩管荫罩清洗中的应用

• 作者: 王建平 边辉 郭荒
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 清洗 水基碱性 三氯乙烷
• 年，卷（期）: 2001,（4）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 47-50
• 页数: 4页
• 分类号: TN141.3+2
• 字数: 3984字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2001.04.014

摘要

本文结合生产实际,着重论述了将水基碱性清洗技术应用于成型荫罩的清洗工序,通过对工艺条件的摸索、对重大工艺不良采取了对策和对设备进行了必要的改造,最终达到了良好的清洗效果,从而结束了使用对臭氧层有破坏作用的三氯乙烷清洗荫罩的历史.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王建平		12	2	1.0	1.0
2	边辉		9	0	0.0	0.0
3	郭荒		4	2	1.0	1.0