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集成电路的技术热点
集成电路的技术热点
作者:
黄辛
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
摘要:
1.半导体存储器向大容量、高速度方向发展 目前,DRAM的发展方向是向大容量、高集成度,高速专用化发展,1998年64M DRAM开始大量上市,现已成为市场主流产品,随着PC、移动电话、网络等信息产品的快速增长,对大容量DRAM的需求将增长,2001年,128M产品市场将超过64M成为主流产品.目前,日韩等国大公司都在积极扩充128M产品.2000年三星还首次开发出512MDRAM,预计明年下半年批量生产.富士通、东芝与我国台湾华邦公司最近联合宣布,将投入300亿日元,共同研发0.13微米和0.11微米的DRAM制造技术,并于2001年底之前开发1G DRAM.
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篇名
集成电路的技术热点
来源期刊
世界产品与技术
学科
关键词
年,卷(期)
2001,(8)
所属期刊栏目
计算机元器件
研究方向
页码范围
17-19
页数
3页
分类号
字数
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
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姓名
单位
发文数
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1
黄辛
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期刊影响力
电子产品与技术
主办单位:
中国国际贸易促进委员会
中国国际商会
出版周期:
月刊
ISSN:
1006-5083
CN:
11-3587/F
开本:
出版地:
北京市复兴门外大街1号
邮发代号:
创刊时间:
语种:
chi
出版文献量(篇)
231
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