真空灭弧室开断后氧化铝瓷表面冷凝的金属蒸汽的研究

• 作者: Fink Harald 张蔚平
• 来源期刊: 真空电器技术
• 学科: 工学
• 关键词: 真空灭弧室 氧化铝瓷表面 冷凝 真空断路器 金属蒸汽
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 页码范围: 34-41
• 页数: 8页
• 分类号: TM561.2

摘要

对真空灭弧室开断后瓷壳（高纯Al2O3)表面绝缘性能的基础研究已经进行过。为了研究屏蔽筒对于瓷壳表面金属蒸汽冷凝的防护作用。我们使用不同类型的真空灭弧室（Ⅵ），即有屏蔽筒和无屏蔽筒的灭弧室。另外，还研究对比了CuCr25(重量百分比）和WCAg40(重量百分比）两种触头材料的金属蒸汽与氧化铝瓷表面附着力的差别。对真空灭弧室进行高压考炼后，在触头之间触发产生一个任意燃弧时间的直流电弧，它可模拟大电流开断和负载开断时产生的金属蒸汽，在每次燃弧测试之间，所有灭弧室的绝缘水平都用一个交流高压源来检测。之后，将真空灭弧室打开，用电子扫描显微镜（SEM）来分析瓷壳内表面冷凝金属的微观结构，用电感淹合等离子法（ICP）来研究金属层的化学成份，为了比较触头材料与冷凝的金属蒸汽层电性能之间的关系，还测量了金属蒸汽冷凝层的电导。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	Harald		1	0	0.0	0.0
2	Fink		1	0	0.0	0.0
3	张蔚平		1	0	0.0	0.0