光诱导聚合蒙脱土插层纳米复合材料的研究

• 作者: 吴世康 姜永才 张晓宏 李青山 梅明华 王慧敏
• 来源期刊: 感光科学与光化学
• 学科: 化学
• 关键词: 光聚合 蒙脱土 插层 小角X-光衍射技术 纳米复合材料
• 年，卷（期）: 2001,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 250-256
• 页数: 7页
• 分类号: O644
• 字数: 3575字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-0475.2001.04.003

摘要

用两种光聚合法研究了蒙脱土插层复合材料的制备.用小角X光衍射技术对产物内蒙脱土的结构进行表征,结果表明,蒙脱土经改性后能很好地使聚合单体及预聚物插入黏土层内并在光照下"就地”聚合生成光聚合复合材料.对光聚合法制备蒙脱土纳米复合材料的优缺点进行了初步讨论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李青山	齐齐哈尔大学材料科学与工程系	77	636	15.0	20.0
2	张晓宏	中国科学院理化技术研究所	54	453	12.0	19.0
3	吴世康	中国科学院理化技术研究所	83	859	15.0	25.0
4	王慧敏	齐齐哈尔大学材料科学与工程系	18	93	7.0	9.0
5	姜永才	中国科学院理化技术研究所	14	35	4.0	5.0
6	梅明华	中国科学院理化技术研究所	8	73	5.0	8.0