高质量CVD金刚石膜的氧化损伤

• 作者: 刘敬明 吕反修 唐伟忠
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 金刚石膜 氧化 红外透过率 显微组织
• 年，卷（期）: 2001,（2）
• 页码范围: 167-170
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2192字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2001.02.012

摘要

高质量CVD金刚石膜的高温损伤的研究是其高温应用的基础。抛光的金刚石膜经780℃保温3min后，红外透过和可见光的透过率开始下降；780℃保温15min后，其红外透过和可见光的透过率严重受损。扫描电镜、原子力学显微镜及台阶仪的结果表明：CVD金刚石膜氧化的开始阶段主要集中在晶界、表面孔洞等缺陷处，随后导致金刚石膜的晶面也开始刻蚀，表面粗糙度增大，最终使得金刚石膜丧失红外和可见光的透过。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕反修	北京科技大学材料科学与工程学院	151	1208	18.0	24.0
2	唐伟忠	北京科技大学材料科学与工程学院	106	860	16.0	21.0
3	刘敬明	北京科技大学材料科学与工程学院	11	91	6.0	9.0