浅述我厂20kt/a离子膜烧碱装置中的技术改进

• 作者: 房国诚 章四七 蔡家胜 郑颂武
• 来源期刊: 中国氯碱
• 学科: 工学
• 关键词: BiTAC(R)-823型复极电解槽 引进装置 技改措施
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 所属期刊栏目: 离子膜
• 页码范围: 14-15,22
• 页数: 3页
• 分类号: TQ11
• 字数: 3382字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-1785.2001.03.005

摘要

介绍CEC公司提供的电解装置概况、生产工艺流程、运行情况及存在的问题和改进措施.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	章四七		5	11	1.0	3.0
2	郑颂武		1	0	0.0	0.0
3	蔡家胜		1	0	0.0	0.0
4	房国诚		1	0	0.0	0.0