一种MCT离子注入工艺的模型及其计算机模拟方法

• 作者: 仲顺安 刘向华 曲秀杰
• 来源期刊: 红外技术
• 学科: 工学
• 关键词: 碲镉汞 离子注入 模型 模拟
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 19-22
• 页数: 4页
• 分类号: TN213
• 字数: 3191字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2001.01.006

摘要

给出了一种简单而有效的碲镉汞(MCT)离子注入工艺模型，研究了应用该模型进行计算机模拟的数值方法，最后讨论了该模型中一些重要参数的确定方法。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	仲顺安	北京理工大学电子工程系	54	185	7.0	10.0
2	曲秀杰	北京理工大学电子工程系	16	419	8.0	16.0
3	刘向华	北京理工大学电子工程系	1	1	1.0	1.0