水冷反应室式MWPCVD制备金刚石膜装置研制

• 作者: 舒兴胜 邬钦崇
• 来源期刊: 真空与低温
• 学科: 工学
• 关键词: MWPCVD装置 稳定运行 金刚石膜
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 15-17,20
• 页数: 4页
• 分类号: TB43|TP271
• 字数: 2150字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7086.2001.01.004

摘要

微波等离子体化学气相沉积(MWPCVD)是制备金刚石膜的一种重要方法.为了获得金刚石膜的高速率大面积沉积,研制成功了水冷反应室式MWPCVD制备金刚石膜的装置.装置在微波输入功率为3.0 kW时能长时间稳定运行,并在硅衬底上沉积出金刚石膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邬钦崇	中国科学院等离子体物理研究所	18	105	7.0	9.0
2	舒兴胜	中国科学院等离子体物理研究所	21	149	7.0	11.0