Mo/Al-CLM和Mo/γ-Al2O3催化剂表面上钼的分散性

• 作者: 刘维桥 孙桂大 沈文丽 翟玉春
• 来源期刊: 石油化工高等学校学报
• 学科: 化学
• 关键词: 层柱分子筛 γ-Al2O3 钼 分散性
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 所属期刊栏目: 石油化工
• 页码范围: 1-6，31
• 页数: 7页
• 分类号: O643.36
• 字数: 4915字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-396X.2001.03.001

摘要

采用浸渍法和干混法制备了一系列负载钼的层柱分子筛催化剂(Mo/Al-CLM)以及负载钼的γ-Al2O3催化剂(Mo/γ-Al2O3).利用XRD分析了样品表面上钼的分散性.结果发现,两种催化剂无论是浸渍法合成还是干混法合成,均可以使催化剂中钼在载体表面上自发分散而使晶相钼物种消失,而钼含量高时,催化剂表面上保留晶相钼物种.而且无论是浸渍法还是干混法合成的催化剂,相同钼含量时,均是Mo/γ-Al2O3催化剂表面上钼的分散性优于Mo/Al-CLM催化剂.通过氨水处理,可以使低、中以及高钼含量的催化剂上所有晶相钼物种消失,即溶解掉一部分表面钼物种,改善了钼物种在载体表面上的分散性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	翟玉春	东北大学材料与冶金学院	596	6449	37.0	51.0
2	孙桂大		78	850	16.0	23.0
3	刘维桥	东北大学材料与冶金学院	7	34	3.0	5.0
4	沈文丽	抚顺石油学院石油化工系	2	10	2.0	2.0