由正弦结构图产生的莫尔条纹各影响因素分析

• 作者: 李根乾 王学礼 谭玉山 赵宏
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 三维测量 莫尔技术 正弦结构
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文与技术报告
• 页码范围: 65-68
• 页数: 4页
• 分类号: TN247
• 字数: 2382字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2001.01.018

摘要

莫尔技术以其特有的优点在光电三维面型测量中占有举足轻重的地位。正确理解各种影响因素对莫尔条纹的影响，对莫尔技术的正确应用有着重要的指导意义。分析了由正弦结构形成莫尔信息的几种方式，详细地研究了影响此种莫尔信息的几种因素——频率、相位、幅值、背景光强、结构间夹角等。得出了一些有意义的结论，给出了正确应用莫尔信息的一般原则。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵宏	西安交通大学激光与红外研究所	71	687	16.0	23.0
2	谭玉山	西安交通大学激光与红外研究所	77	1184	18.0	31.0
3	王学礼	西安交通大学激光与红外研究所	8	42	5.0	6.0
4	李根乾		5	15	2.0	3.0