钨的化学机械抛光过程中TiN-W电偶的腐蚀行为

• 作者: 林昌健 程璇
• 来源期刊: 电化学
• 学科: 工学
• 关键词: 化学机械抛光 电化腐蚀 球面平整度
• 年，卷（期）: 2001,（2）
• 所属期刊栏目: 第二届海峡两岸材料
• 页码范围: 189-194
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.3
• 字数: 1081字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-3471.2001.02.008

摘要

化学机械抛光(CMP)技术是同时利用化学和机械作用来获得固体表面亚微米尺度上平整性非常有效的方法，从90年代初期起已成为制备高质量镜头和镜面及集成电路制造过程中硅片表面预处理工艺中最常用的技术之一.钨的化学机械抛光是用钨坯获得硅片球面平整度的重要工艺.其过程实际上是先将钨沉积到硅上已有的薄粘附层－氮化钛上，然后进行化学机械抛光.当抛光阶段接近终了时，氮化钛和钨表面将同时暴露在化学抛光液中形成电偶对，并在界面上发生腐蚀行为，从而影响硅片的球面平整度，降低半导体器件的性能与可靠性. 本文通过采用电化学直流极化技术，分别获得钨与氮化钛在0.01 mol/L KNO3溶液中或含有三种典型的研磨剂(H2O2, KIO3, Fe(NO3)3)溶液中的极化曲线，同时设计了一种特殊的电解槽以测量钨和氮化钛之间相互作用的电流，初步研究了patterned硅片上钨和氮化钛界面形成电偶对时的腐蚀行为.根据所测的钨和氮化钛电位可知，当钨和氮化钛表面同时暴露在抛光液中时将形成电偶对，氮化钛成为阴极，钨为阳极，并于界面发生电化学反应，表面的不均匀腐蚀将造成硅片平整度的降低.结果表明，当溶液中含有H2O2时钨和氮化钛界面的腐蚀速度最大，而当溶液中含有Fe(NO3)3时的钨和氮化钛界面则几乎不发生腐蚀.搅拌条件下测得的钨和氮化钛之间相互作用的腐蚀电流要比静止条件下测得的大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林昌健	厦门大学材料科学与工程系	111	1423	23.0	32.0
2	程璇	厦门大学化学系	47	284	10.0	15.0