工业硅炉中铜瓦位置的优化

• 作者: 俞景禄 巨建涛 张朝晖 池延斌 王忠涛
• 来源期刊: 铁合金
• 学科: 工学
• 关键词: 工业硅铜瓦位置优化石墨电极自焙电极功率
• 年，卷（期）: 2001,（2）
• 所属期刊栏目: 设备改造 推广及应用
• 页码范围: 35-38
• 页数: 4页
• 分类号: TF67|TF674.2
• 字数: 2457字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1943.2001.02.010

摘要

采用石墨电极的工业硅炉，对铜瓦位置的设定，不宜套用自焙电极的模式，其合理位置为：矮烟罩炉H=2.3～2.5m，或H=0.8～1m，敞口炉H=1m。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王忠涛		7	12	2.0	3.0
2	巨建涛		81	305	9.0	13.0
3	张朝晖		111	462	11.0	16.0
4	俞景禄		6	22	2.0	4.0
5	池延斌		5	14	2.0	3.0