TurboDisc MOCVD设备的理论和应用:流体动力学方法

• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 工学
• 关键词: Ⅲ-Ⅴ族薄膜材料 MOCVD理论 流体动力学方法 立式旋转盘反应器
• 年，卷（期）: 2001,（z1）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 99-102
• 页数: 4页
• 分类号: TN312.8
• 字数: 1037字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7032.2001.z1.024

摘要

报道了EMCORE公司的旋转盘反应器,或TurboDisc反应器,这是一种带有旋转盘的立式反应器.衬底片放置在高速旋转的盘上并被加热到合适的生长温度.反应物在初始阶段因高速旋转盘的牵引力被竖直向下地泵入,然后偏斜形成一个与衬底片托盘平行的流动区域.在"GaNzilla”,EMCORE公司的一种新型325mm的GaN生产反应器中外延生长了GaN材料.为在蓝宝石衬底上得到高质量的GaN,采用高的生长压力和高旋转速度,可以在这种旋转盘反应器中实现必要的生长条件.还对p-GaN,InGaN,InGaN多量子阱,以及LED器件进行了类似的实验,都能获得最佳的生长条件.