亚微米接触式X射线曝光对准系统

• 作者: 刘业异 叶甜春 王继红 苏伟军
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: X射线光刻 掩模 硅片 对准
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 页码范围: 14-17,61
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2890字
• 语种: 中文

摘要

介绍了接触式X射线曝光对准系统的设计原理，对其关键部分(精密调整台、微位移控制、对准光学系统等)做了详细阐述，并进行了系统的精度分析。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	叶甜春	中国科学院光电技术研究所	200	911	14.0	18.0
2	刘业异	中国科学院光电技术研究所	13	173	7.0	13.0
3	王继红	中国科学院光电技术研究所	27	313	5.0	17.0
4	苏伟军	中国科学院光电技术研究所	1	3	1.0	1.0