氧、氮掺杂非晶硅基薄膜的荧光

• 作者: 吴雪梅 姚伟国 欧阳艳东 石旺舟
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 非晶硅基薄膜 氧和氮掺杂 荧光
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 所属期刊栏目: ·研究报告·
• 页码范围: 71-74
• 页数: 4页
• 分类号: O472.3
• 字数: 2273字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7032.2001.01.019

摘要

采用PECVD方法分别沉积了SiO x∶H和SiOxNy∶H薄膜,测量了其荧光特性.在SiOx∶H薄膜中观察到300～570nm强荧光辐射带,并发现其中心位置随着氧含量的增加而红移的现象.在合适的氧含量条件下,荧光带主峰位于蓝光波段,并具有分立峰结构.在SiOxNy∶ H薄膜中,荧光谱由250～400nm、500～700nm两个荧光带和370nm、730nm两组分立荧光峰组成.分立峰强度随薄膜中的氮含量增加而升高;荧光带中心位置受到沉积过程中氢的流量调制,当氢流量增加时,发射带的中心位置产生蓝移.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	欧阳艳东	汕头大学物理系	52	293	10.0	13.0
2	吴雪梅	苏州大学薄膜材料实验室	72	331	9.0	13.0
3	姚伟国	苏州大学薄膜材料实验室	21	66	4.0	6.0
4	石旺舟	汕头大学物理系	15	85	5.0	9.0