Tb-Fe-Co磁光薄膜溅射条件对Kerr转角的影响

• 作者: 刘志农 张喜燕 陈志武
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁光盘 薄膜 磁光材料
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 所属期刊栏目: 简报
• 页码范围: 334-335
• 页数: 2页
• 分类号: O484.1
• 字数: 925字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2001.03.045

摘要

在实际磁光盘生产线上大都使用合金溅射靶溅射记录介质膜,而尚未有直接使用合金靶研究这些关系的报道.我们首先研制了用于磁光溅射的系列合金靶,并完善了靶材制造工艺参数,且在此基础上进行了成分以及溅射参数对各种磁光性能影响的研究.首先确定了各种溅射功率和N2-Ar气流量下Al、Si以及Tb-Fe-Co(Mo)的溅射速率,在此基础上通过改变溅射功率和调整气流量改变SiN的成分和厚度.在各种功率和气流量下溅射了Mo膜,并测定了这些磁光膜的Kerr回线以获得Kerr转角等性能,从而探讨了溅射工艺条件对Kerr的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张喜燕	西南交通大学稀土金属与信息材料研究所	34	208	10.0	13.0
2	刘志农	西南交通大学稀土金属与信息材料研究所	11	49	4.0	7.0
3	陈志武	西南交通大学稀土金属与信息材料研究所	3	0	0.0	0.0