离子束辅助沉积(Al,Ti)N硬质涂层工艺优化

• 作者: 李曙光
• 来源期刊: 航天工艺
• 学科: 航空航天
• 关键词: (Al,Ti)N 工艺优化 离子束辅助沉积 硬质涂层
• 年，卷（期）: 2001,（4）
• 所属期刊栏目: 工艺技术研究
• 页码范围: 5-9
• 页数: 5页
• 分类号: V26
• 字数: 3507字
• 语种: 中文

摘要

金属原子比Ti/(Ti+A1)R1=0～1.0和金属离子原子比(Ti+A1)/NR2=0.5～15范围内,当氮离子束流密度为0.10mA/mm2,氮离子能量为2.0keV时,采用离子束辅助沉积(IBAD)(Al,Ti)N硬质涂层.工艺优化表明,R1=0.25,R2=1.0时,可得到最佳涂层硬度和表面光洁度.由涂层表面及断面电子扫描镜(SEM)分析,三元素涂层(Al,Ti)N组织致密且晶粒细小.由电子探针微分析(EPMA),涂层内部氮元素处于过饱和状态.由X射线衍射(XRD)分析,最佳处存在AlN(101)和TiN(200)结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李曙光		11	93	5.0	9.0