常压介质阻挡放电非平衡等离子体渗氮

• 作者: 严立 朱新河 秦艳
• 来源期刊: 大连海事大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 金属热处理 电介质阻挡放电 常压 等离子体渗氮
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 页码范围: 92-95
• 页数: 4页
• 分类号: TG156.82
• 字数: 1579字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7736.2001.03.024

摘要

利用介质阻挡放电,在自行研制的设备上进行常压非平衡等离子体渗氮.研究表明,该新工艺不仅在很短时间内在试样表面得到很深的渗层和白亮层,而且省去了真空放电下必须的真空设备,整个工艺过程操作简便,是一种很有发展前景的新工艺.此外,还分析了渗层深度及硬度随放电间隙不同的变化规律.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱新河	大连海事大学船机修造及金属工艺研究所	86	538	12.0	19.0
2	严立	大连海事大学船机修造及金属工艺研究所	75	645	13.0	20.0
3	秦艳	大连海事大学船机修造及金属工艺研究所	6	27	3.0	5.0