金属铀与H2表面化学行为的XPS研究

• 作者: 伏晓国 俞勇 汪小琳 赵正平
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 铀 H2 X射线光电子能谱
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 207-210
• 页数: 4页
• 分类号: O614.62
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6931.2001.03.003

摘要

采用X射线光电子能谱(XPS)分析研究了金属铀的清洁表面在100和200℃时与H2作用的表面化学行为。通入12.0Pa·s口H2即可观察到明显的氢化反应，UH3的U 4f7/2峰结合能为378.7 eV。温度由100℃升高至200℃有利于UH3生成。深度分析表明：清洁的金属铀表面与H2作用后，表面层结构由表向里依次为UO2、UH3和U。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汪小琳		82	376	11.0	13.0
2	伏晓国		13	70	6.0	7.0
3	俞勇		2	4	1.0	2.0
4	赵正平		8	46	5.0	6.0