等离子体显示器的介质保护膜

• 作者: 喻志农 郑德修
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体显示器 氧化镁薄膜
• 年，卷（期）: 2001,（2）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 19-22
• 页数: 4页
• 分类号: TN43
• 字数: 2753字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2001.02.005

摘要

介质保护膜对改善等离子体显示器的工作特性有极其重要的意义。本文概述了一些作为等离子体显示器介质保护层材料的特点，特别是氧化镁薄膜的性质及制备方法，分析了在显示屏制作过程中后工序对氧化镁介质保护层的影响，对等离子体显示器的产业化的发展具有重要意义。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑德修	西安交通大学电子物理与器件研究所	14	95	6.0	9.0
2	喻志农	西安交通大学电子物理与器件研究所	7	29	3.0	5.0