原位TiN/O′-Sialon材料的低温氧化行为研究

• 作者: 姜涛 杨建 王文忠 薛向欣 谢朋
• 来源期刊: 包头钢铁学院学报
• 学科: 工学
• 关键词: TiN/O′-Sialon 低温氧化
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 所属期刊栏目: 第六届人全国工艺理论学术会议专辑（上）
• 页码范围: 232-235
• 页数: 4页
• 分类号: TF065.1+4
• 字数: 2219字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.2095-2295.2001.03.010

摘要

采用热分析法研究了原位TiN/O′-Sialon材料在低温下(800～1 000 ℃)的氧化行为.结果表明,在800～1 000 ℃的空气中,TiN氧化为TiO2,O′-Sialon不发生氧化,时间足够长,材料转变为原位TiN/O′-Sialon复相材料.材料表面无“保护膜”生成.氧化过程遵循对数规律:Δm/A=Klg t+C,反应表观活化能56.1 kJ*mol-1.气氛中氧分压的增高加剧材料的氧化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨建	东北大学材料与冶金学院	19	154	6.0	12.0
2	薛向欣	东北大学材料与冶金学院	336	3113	24.0	40.0
3	王文忠	东北大学材料与冶金学院	65	725	15.0	25.0
4	姜涛	东北大学材料与冶金学院	79	707	13.0	23.0
5	谢朋	东北大学材料与冶金学院	7	29	3.0	5.0