40Cr基体与TiN膜层界面微观结构研究

• 作者: 刘一梅 王亮 黑祖昆
• 来源期刊: 佳木斯大学学报(自然科学版)
• 学科: 工学
• 关键词: 40Cr TiN 离子渗氮 微观 机理 膜基界面
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 页码范围: 5-8
• 页数: 4页
• 分类号: TG172.445
• 字数: 1516字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-1402.2001.01.002

摘要

在40Cr基体上镀TiN，存在膜基结合不牢的问题.作者前期工作已证实在镀TiN膜前先进行离子渗氮予处理，可以提高膜基结合力.本文从微观的方面对这一机理进行研究.膜层及膜基界面的透射电镜观察结果表明，40Cr基体经离子渗氮后再镀TiN，膜层晶粒细小、均匀，膜基结合紧密.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王亮		21	252	8.0	15.0
2	黑祖昆		33	503	8.0	22.0
3	刘一梅		18	114	6.0	10.0