SiH4,Si2H6的制备与分离

• 作者: 余京松 田波
• 来源期刊: 低温与特气
• 学科: 工学
• 关键词: 甲硅烷 乙硅烷 低温冷凝 分子筛 恒温恒压汽化
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 所属期刊栏目: 特气制备
• 页码范围: 20-23
• 页数: 4页
• 分类号: TQ117
• 字数: 2310字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-7804.2001.03.009

摘要

用Mg2Si制备SiH4必然伴随产生Si2H6.经二级低温冷凝 ,分子筛吸附和恒温恒压汽化等工艺技术过程,能够对两种气体进行最有效的分离 .并且可以制备Si2H6和总杂质含量≤10×10-6,基磷＜0.2×10-9, 基硼＜0.05×10-9的高纯SiH4.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	余京松		9	78	5.0	8.0
2	田波	光明化工研究设计院	7	17	2.0	3.0