椭圆偏振光研究O+2注入Si的退火特性

• 作者: 高雅君
• 来源期刊: 辽宁大学学报(自然科学版)
• 学科: 物理学
• 关键词: 离子注入 辐射损伤 退火 椭圆偏振光
• 年，卷（期）: 2001,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 340-343
• 页数: 4页
• 分类号: O436.3
• 字数: 2118字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-5846.2001.04.012

摘要

用椭圆偏振仪测量了O+2注入Si后的椭偏参数Φ和Δ, 给出了离子注入辐射损伤与注入剂量和注入能量的关系.同时,对离子注入片在N2气氛中进行等时热退火,测量了Φ和Δ,给出了O+2注入Si的退火特性.结果表明:O+2注入Si的退火特性曲线,对不同的注入剂量和注入能量分别为"V”形和"W”形.对此结果, 我们进行了初步地分析和讨论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高雅君	辽宁大学物理系	4	6	1.0	2.0