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偏压对磁控溅射沉积Al-Zn镀层成分和结构的影响
偏压对磁控溅射沉积Al-Zn镀层成分和结构的影响
作者:
吕学超
张永彬
鲜晓斌
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
基片偏压
Al-Zn镀层
组成
结构
摘要:
采用扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪、X射线能谱(EDS)和俄歇电子能谱仪(AES),研究了基片偏压对磁控溅射沉积Al-Zn镀层组成和结构的影响.随着基片偏压的增加镀层的Zn含量呈降低趋势,在不同基片偏压下可获得不同择优取向的Al-Zn镀层.
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文献信息
篇名
偏压对磁控溅射沉积Al-Zn镀层成分和结构的影响
来源期刊
真空
学科
工学
关键词
基片偏压
Al-Zn镀层
组成
结构
年,卷(期)
2001,(6)
所属期刊栏目
热点追踪
研究方向
页码范围
20-22
页数
3页
分类号
TG174|TB43
字数
1959字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1002-0322.2001.06.005
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
鲜晓斌
47
280
10.0
12.0
2
吕学超
29
121
6.0
9.0
3
张永彬
10
65
5.0
8.0
传播情况
被引次数趋势
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二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
基片偏压
Al-Zn镀层
组成
结构
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空
主办单位:
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1002-0322
CN:
21-1174/TB
开本:
大16开
出版地:
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
邮发代号:
8-30
创刊时间:
1964
语种:
chi
出版文献量(篇)
2692
总下载数(次)
3
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