偏压对磁控溅射沉积Al-Zn镀层成分和结构的影响

• 作者: 吕学超 张永彬 鲜晓斌
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 基片偏压 Al-Zn镀层 组成 结构
• 年，卷（期）: 2001,（6）
• 所属期刊栏目: 热点追踪
• 页码范围: 20-22
• 页数: 3页
• 分类号: TG174|TB43
• 字数: 1959字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2001.06.005

摘要

采用扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪、X射线能谱(EDS)和俄歇电子能谱仪(AES),研究了基片偏压对磁控溅射沉积Al-Zn镀层组成和结构的影响.随着基片偏压的增加镀层的Zn含量呈降低趋势,在不同基片偏压下可获得不同择优取向的Al-Zn镀层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	鲜晓斌		47	280	10.0	12.0
2	吕学超		29	121	6.0	9.0
3	张永彬		10	65	5.0	8.0