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摘要:
采用扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪、X射线能谱(EDS)和俄歇电子能谱仪(AES),研究了基片偏压对磁控溅射沉积Al-Zn镀层组成和结构的影响.随着基片偏压的增加镀层的Zn含量呈降低趋势,在不同基片偏压下可获得不同择优取向的Al-Zn镀层.
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文献信息
篇名 偏压对磁控溅射沉积Al-Zn镀层成分和结构的影响
来源期刊 真空 学科 工学
关键词 基片偏压 Al-Zn镀层 组成 结构
年,卷(期) 2001,(6) 所属期刊栏目 热点追踪
研究方向 页码范围 20-22
页数 3页 分类号 TG174|TB43
字数 1959字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1002-0322.2001.06.005
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 鲜晓斌 47 280 10.0 12.0
2 吕学超 29 121 6.0 9.0
3 张永彬 10 65 5.0 8.0
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2018(1)
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研究主题发展历程
节点文献
基片偏压
Al-Zn镀层
组成
结构
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空
双月刊
1002-0322
21-1174/TB
大16开
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
8-30
1964
chi
出版文献量(篇)
2692
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3
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