物理气相沉积薄膜的界面与附着力

• 作者: 王国庆 蒙继龙 谢致薇
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 物理气相沉积 薄膜 附着力 界面 过渡层
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 所属期刊栏目: 综述评论
• 页码范围: 203-209，213
• 页数: 8页
• 分类号: O484.2|O485
• 字数: 7412字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2001.03.008

摘要

近十多年来，气相沉积技术发展十分迅速，无论在理论研究还是应用研究上都取得了丰硕的成果，尤其在PVD薄膜的附着力方面，研究十分活跃。本文根据有限的资料，初步归纳出：在PVD过程中，膜/基附着力与基体表面活性密切相关；薄膜与基体之间也可以化学吸附形式结合，形成界面化合物；也可借助离子的轰击作用形成结合良好的扩散过渡层；膜/基界面之间不匹配将使附着力下降，可通过设置过渡层(梯度层)的方式加以解决。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒙继龙	华南理工大学机械电子工程系	56	634	15.0	23.0
2	谢致薇	华南理工大学机械电子工程系	85	436	12.0	15.0
4	王国庆	广东工业大学材料系	32	465	12.0	21.0