由W0.95Ni0.05金属薄膜形成光弹波导结构的热稳定性

• 作者: 徐万劲 邢启江
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: WNi/半导体接触 光弹效应 平面型波导器件 热稳定性
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文与技术报告
• 页码范围: 21-25，37
• 页数: 6页
• 分类号: TN252
• 字数: 2705字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2001.01.006

摘要

InGaAsP/InP双异质结构外延片在直流负偏压120 V作用下,利用射频溅射和光刻剥离技术在样品表面淀积厚为110 nm的W0.95Ni0.05金属薄膜应变条，并在该应变条下的半导体内形成了对InGaAsP/InP双异质结构侧向光具有良好限制作用的光弹波导结构。W0.95Ni0.05金属薄膜及由其形成的光弹波导器件在氢氮混合气体的保护下，分别在250 ℃、350 ℃、450 ℃和600 ℃温度下各退火30 min以后，W0.95Ni0.05金属薄膜中压应变减少了十分之一。光弹波导器件输出椭圆形近场光模长、短轴之比由原来的2.0增加到2.2（对2 μm条宽）和2.5增加到2.9（对4 μm条宽）。实验结果证明，这种波导结构具有很高的热稳定性。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邢启江	北京大学物理系	6	9	2.0	2.0
2	徐万劲	北京大学物理系	9	351	2.0	9.0