α-氧化铁气敏纳米晶锡掺杂最佳含量的理论计算

• 作者: 孙以材 范志新
• 来源期刊: 电子器件
• 学科: 工学
• 关键词: α-氧化铁 气敏性 纳米晶粉体 最佳掺杂含量 理论计算
• 年，卷（期）: 2001,（4）
• 页码范围: 386-389
• 页数: 4页
• 分类号: O484|TN305
• 字数: 2246字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9490.2001.04.021

摘要

应用与晶体结构和掺杂方法相关的最佳掺杂含量的理论表达式,对氧化铁气敏纳米晶粉体中锡掺杂最佳含量进行理论计算.定量计算的结果与实验数据相符合.该理论经适当的修改和解释后也适用于某些其他电子薄膜材料的最佳掺杂含量问题.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙以材	河北工业大学应用物理系	117	1247	18.0	31.0
2	范志新	河北工业大学应用物理系	80	693	13.0	23.0